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第69章 检测比制造更难（第1页）

周怀义带着路阳四处参观，厂区的基础建设已基本完成，生产车间设备已到大半，明年2月份，1，2号低端制程光刻机可以投产，3，4，5号高端制程光刻机预计在6月份可以投产，至于euV光刻机，只有等专项小组出结果。

“周哥，昨天温天洋跟我提了下，华微有意入股华芯光学，你觉得如何？”路阳问道，对于这方面的把握，周怀义考虑得更加全面些。

思索片刻，周怀义说道：“可以同意他们入股，但最好别以华微的名义，长春光学虽然有技术，但缺少人才储备，我已经派人去协助他们建造镜片的生产线，5条就是他们的极限了。”

路阳想起白学礼的催促，问道：“华芯光学这边是有什么问题吗？选址怎么到现在还没确认下来。”

“这事怪我，本来刚开始计划是在京城的，长春光机所那边的核心技术人员会安排一批过来，毕竟大部分人家都在北方，后来上面考虑在申三角一带建立半导体芯片产业带，元旦半导体协会那边会有动作，开放部分技术，国家也会扶持相关产业。”

周怀义这么一解释路阳立刻明白过来，原来是要围绕华芯打造申三角半导体产业带，这样一来，便可以通过一家巨头拉动整个产业链，逐渐形成生态。

“芯源、中科信、北方华创、睿砺都开始在我们附近选址建厂了，都是做半导体相关设备的企业，申城有意把在松江这边打造成半导体工业园。”

芯源是做涂胶显影的，中科信主要做离子注入扩散，睿砺主要做检测设备，至于北方华创规模要比前三家大得多，业务涉及到薄膜沉积，清洗设备，金属化pVd等。

听到这么多知名企业入局，路阳很是开心，“既然这样，华芯光学就定在松江好了，2ooo亩的面积足够了。”

“地方倒是没问题，不过晶圆厂呢？你也打算建在这边？”周怀义问道，虽然现在还没建造的资金，但他知道路阳肯定是要建造自己的晶圆厂的。

“看情况吧，这事等华芯微电子这边生产线建好再说。”

“也只能如此了，明年商务考察的时间已经确认，就在四月中旬，留给我们的时间不多，出之前，至少要把9o纳米的光刻机制造出来才行。”

“9o纳米？上面允许出口？”路阳问道。

周怀义点了下头，“9o限量出售，主要还是以低端制程的光刻机为主，元旦后商务部与半导体产业协会会在申城联合举办产业展论坛，到时你要出席。”

路阳自是不会拒绝上面的安排，这次论坛主要目的便是让华芯转让出部分技术，同时还可以获得部分资金。

接着又简单把海思那边的进度给周怀义介绍了下，“按照这个度，节前应该能组装出来。”

“你还是要注意些，别说漏嘴了，该保密的还得保密，何洪年可信，但3oo多人不能保证所有人都不会出问题。”

确认好华芯光学的事，路阳驱车回申城，海思那边在镜片运到之前都不需要过去了。

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申城微电子，柴文政与丁冉到这边已经一个月时间了，虽然镜片的事已经完成，但光学系统还需两人负责，第一批镜片已经运到，这两天正在考虑如何实验的事。

原计划是要等到实验机完成组装，才能测试，但两人却想早些测试这批镜片是否能实现对应的功能。

光路布置的软件是聊老安排人开的小程序，利用这个小程序，两人最近已经设计了几十种方案。

但实际情况下，每次镜片的反射，都会损失3o%的光能，主要还是极紫外光太容易被吸收了，连空气都可以把它吸收完，所以实验必须在真空条件下进行。

“我们可以制造一个真空环境，先测试镜片的反射强度与吸收光能的比例。”丁冉说道，每天都在电脑上设计光路，不能开展实验，对他们来说心里没底，现在镜片到了，她非常心动。

柴文政摇摇头，说道：“现在的问题是光源，不击打液态金属锡，根本无法产生13.5纳米的极紫外光，你直接使用193纳米的极紫外光测试没有意义。”

“为什么没有意义呢？我们可以通过数据来推演啊。”丁冉仍然坚持着。

“193的极紫外光跟13.5完全是两码事，用什么模型来推演，算法是什么，依据又是什么？”

“可要等到计算组那边出结果，不知道还要有多久，每秒5万次，想想都觉得这中间的难度之大。”丁冉情绪低落，计算组那边迟迟不见进展。

柴文政叹了口气，“听说廖老已经安排人去申请算了，除了等待也没其他办法。”

“计算组那边大部分都是来自华科院的人，为了解决这个问题，已经把模型拆分，返给华科院的同事们协助计算，好像还请了各高校的数学家协助计算。”丁冉自顾自说，计算组那边已经是华国的顶级团队了。

“以计算组的实力，出结果是早晚的问题，我担心的反而是设备组是否能跟得上，这种微观级别的操作，算法与设备精度必须要匹配才行，我现在终于知道为什么asmL一点也不担心图纸外泄的问题了，我们在精密设备上距离国外的水平还很远。”

柴文政的担心并非没有道理，设备组那边到现在仍然还有部分关键零部件没有采购到。

核心问题还是euV镜头组与duV完全不一样，所有人都是在摸着石头过河，理论与实际操作的差异在这方面完全被无限放大了，而且检测系统方面，还有更大的问题。

与电脑程序的bug不同，只要不影响程序的运行，软件公司是允许bug存在的。

但光刻机完全不行，哪怕是纳米级的微小错误，都会让整个生产批次报废，所以能快检查，实时现错误并修正也是光刻机的另一大技术壁垒。

asmL为此还收购了一家光学检测的公司，通过检测晶圆射的光斑来收集大量实时产生的数据实现快检测。

所以业内也常有人说，检测比制造更难！